装置包括可拆卸的溅射腔体、溅射靶台、真空系统、测量系统、进气系统等部分组成。 采用同轴二极溅射结构，以沉积材料为阴极，加工样品为阳极，两极间加直流电压引起放电，放电气体中的离子加速轰击靶面，溅射粒子沉积在基片表面成膜。

主要实验内容

1、光学薄膜材料的制备及其光学特性的测量；

2、金属薄膜的制备实验；

3、理解直流溅射原理，掌握直流溅射薄膜材料的工艺方法。

主要技术特点

1、溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响；

2、溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响；

3、溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响；

4、反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；

5、反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；

6供电电源：AC 220V，50 Hz。