广泛应用于高校、科研院所制备高质量光学、合金、电学、导电等功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究开发领域。 1、薄膜沉积室： 真空腔室、连接管道和法兰均采用SUS304不锈钢，材料致密放气量小； 腔壁厚 5mm，腔体上、下底板厚度约20mm。 1）沉积室尺寸: D型圆筒形，尺寸约ф350×H450mm，前开门结构； 2）前门结构：采用铰链、铝制前门，手动，上下2个把手，胶圈密封。 2、真空系统 2.1抽气系统 1）采用复合分子泵+直联旋片泵作为真空抽气系统； 2）主抽泵：分子泵抽速≥600L/S，额定转速36000rpm，氮气压缩比≥109； 3）前级泵：采用DRV-24机械泵及电磁阀，抽速：6L/S； 4）主抽阀： CCQ-150A（CF）超高真空电动闸板阀； 5）前级、旁抽阀：GDQ-J25气动挡板阀； *真空系统可以升级为进口分子泵和涡旋干泵。 2.2真空测量 1）数显复合真空计：测量范围：1×105～1×10-5Pa； *真空测量可以升级为进口全量程冷阴极真空计。 2.3系统性能指标： 1）极限真空度：优于5×10-5Pa (空载经烘烤除气后）； 2）恢复真空：从大气抽至6.7×10-4Pa＜45min； 3）真空室漏率：关机12小时真空度＜5Pa。（新设备空载） 3、样品台 1）抽屉式结构可装载**4英寸样品（方片尺寸100×100mm）； 2）可以根据客户样品形状和大小定制样品托（不超过上述尺寸）； 3）样品台旋转：转速0～30rpm连续可调； 4）样品台可加热，**温度600℃，温度控制精度±0.5℃，可设定升温斜率，加热区内，温度均匀性±5℃； 5）样品台下方设置气动基片挡板 *标准基片台配夹具，方便装卡不同规格的基片； *样品台可选择水冷，采用基片台背板直接水冷形式； *加热和水冷只能选择一种，不可兼容； *基片台可按照用户要求个性化定制。 4、金属蒸发源 1）水冷紫铜电极6根：组成四组蒸发舟；可自由更换蒸发源为舟式源（钨舟、钼舟）、挂丝源（钨绞丝、钨篮）或坩埚源（用于有机材料和粉状材料的蒸发）； 可蒸发金属：Au，Ag，Cu，AL（采用陶瓷坩埚）等低熔点金属； 2）蒸发电源：采用恒压、恒流真空镀膜电源，**输出功率2.4Kw（12V/200A），电流调节精度0.1A，电压调节精度0.01V，数量：2台 *可与膜厚仪（Inficon SQC-310）联动，控制蒸发速率和膜厚； *可升级为进口程控电源， 5、速率/膜厚监测仪（选配、报价不含） 可以选择Inficon SQM-160速率/膜厚监测仪，配1个水冷探头。在线监测蒸发速率与达到膜厚关闭基片挡板 传感器频率范围：4.0MHz至6.0MHz，频率分辨率：±0.12Hz； *可以选择增加一个膜厚仪探头； *可以选择Inficon SQC-310或同功能国产薄膜镀层控制仪，可与蒸发电源形成程闭环控制；控制蒸发速率与*终膜厚。 频率范围：4.0 MHz至6.0 MHz，厚度显示范围：0.0 至 99.999 KÅ 厚度显示分辨率：1 Å，速率显示范围：0.0 至 99.9 Å /秒； 6、控制单元 电气控制系统采用PLC+液晶屏控制方式； *可选择手动按钮继电器逻辑控制。 7、工业冷水机（选配、报价不含） 1）标准制冷量：2941 Kcal/h； 2）输入功率：1.29 kw。 |
